[15a-PA5-1~25] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[15a-PA5-18] ミストCVD法で成膜したエピタキシャルNiO薄膜の結晶及び物性評価

〇五十嵐 聡人¹、星野 千菜美¹、木下 健太郎¹ (1.東理大理)

キーワード：エピタキシャル薄膜、ミストCVD