[15a-PB2-1~22] 8 Plasma Electronics

[15a-PB2-11] Mass Spectrometric Study on Incident Radicals onto Electrode in Low-Pressure RF Tetramethylsilane Plasmas with Different Dilution Gases

〇Yoshiaki Watanabe¹, Syun Suzuki², Kouichi Ishii², Akinori Oda², Takayuki Ohta³, Hiroyuki Kousaka⁴ (1.Innovation Science, 2.Chiba IT., 3.Meijo Univ., 4.Gifu Univ.)

Keywords:RF plasma, Tetramethylsilane, Mass Spectrometer

ダイヤモンドライクカーボン（ Diamond-Like Carbon，以下DLC）膜の成膜手法として，プラズマ支援化学気相成長（ Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition） 法が多く利用されている．このとき，Si-DLC 成膜時のプラズマ生成用ガスとしてテトラメチルシラン （Tetramethylsilane，以下TMS）がよく用いられている．本研究では，He，Ne，Ar という異なる不活性ガスで希釈されたTMS ガスを用いて容量結合型RF 低圧プラズマを生成し，四重極質量分析装置を用いSi-DLC成膜に寄与する電極に入射するイオン・ラジカルの測定を行ったので，その結果について報告する．