[15a-PB2-1~22] 8 プラズマエレクトロニクス

[15a-PB2-17] 二周波駆動低圧Ar/CH₄プラズマにおける基板へ入射するイオンおよびラジカルフラックスの解析

〇(M1C)木村 勇太¹、小川 慎¹、小嶋 正宏¹、小田 昭紀¹、太田 貴之²、上坂 裕之³ (1.千葉工業大学、2.名城大学、3.岐阜大学)

キーワード：炭化水素プラズマ、プラズマシミュレーション、ダイヤモンドライクカーボン

DLCは，水素含有率やsp2およびsp3構造比により幅広い特性を得ることから，薄膜技術として応用されている．DLC膜の成膜手法の一つとして，プラズマCVD法が用いられるが，その堆積メカニズムには未解明な部分が多く，膜特性を制御するまでに至っていない．本研究は二周波駆動Ar/CH4容量結合型プラズマの空間一次元モデルを構築し，印加電圧波形がプラズマ中の粒子組成や基板への入射フラックスに及ぼす影響について解析を行ったので報告する．