9:30 AM - 11:30 AM
[15a-PB2-22] Precise measurement of the temperature of a silicon wafer by an optical-interference contactless thermometer during rapid plasma processing
Keywords:Substrate temperature, Plasma processing, temperature monitoring
プラズマプロセスにおいて正確にウェハ温度を測定することは様々な要因により困難である.本研究では独自に開発した光学干渉非接触温度計(Optical-Interference Contactless Thermometer: OICT) に着目し, そのプラズマプロセス応用を目指した.