光学干渉非接触温度計を用いたプラズマプロセス中のシリコンウェハ温度の高精度測定

09:30 〜 11:30

[15a-PB2-22] 光学干渉非接触温度計を用いたプラズマプロセス中のシリコンウェハ温度の高精度測定

〇(M2)亀田朝輝¹、水川友里¹、花房宏明¹、東清一郎¹ (1.広大先端研)

キーワード：基板温度、プラズマプロセス、温度モニタリング

プラズマプロセスにおいて正確にウェハ温度を測定することは様々な要因により困難である.本研究では独自に開発した光学干渉非接触温度計(Optical-Interference Contactless Thermometer: OICT) に着目し, そのプラズマプロセス応用を目指した.