[15a-PB3-1~12] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[15a-PB3-2] Developement of Fabrication Process for Si Nano-wall Array

〇Masakazu Hirai¹, Yukimi Ichikawa¹, Makoto Konagai¹ (1.Tokyo City Univ.)

Keywords:Si, Nano-wall Array, Anisotropic etching

太陽電池への応用を目的としたワイドバンドギャップSiを実現するため、量子サイズ効果を発現させるナノウォールアレイの開発を進めてきた。ナノインプリントを用いたマスクパターニングとKOHによるSi異方性エッチングと更なる薄化と幅の不均一性是正のためのエッチング方法、乾燥プロセス検討の結果を報告する。