[15p-D311-1~8] 6.3 Oxide electronics

[15p-D311-5] Deposition of bismuth vanadate thin films by RF-sputtering method

〇(M1)Kazuya Tajima¹, IslamMuhammad Monirul¹, Jiaqi Liu¹, Imane Abdellaoui¹, Ikeda Shigeru², Sakurai Takeaki¹ (1.Tsukuba Univ., 2.Konan Univ.)

Keywords:photocatalysis

2 段階光励起（Z-スキーム）型水分解光電極系において酸素発生電極に用いられる BiVO₄は、可視光応答するバンドギャップ（2.4eV）を有し、酸素の発生効率が高いだけでなく、水溶液中での安定性も高いなど理想的な性質を持つ。本研究では報告例のない BiVO4シングルターゲットを用いた monoclinic sheelite (M-s)相の BiVO₄薄膜の成長を試みた。