2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[15p-D411-1~5] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2020年3月15日(日) 13:45 〜 15:00 D411 (11-411)

鳥越 和尚(SUMCO)

14:30 〜 14:45

[15p-D411-4] シリコン結晶の高感度赤外吸収と赤外欠陥動力学(16)as-grown結晶中の窒素

井上 直久1,2、川又 修一2、奥田 修一2 (1.東京農工大学工学院、2.大阪府大研究推進)

キーワード:シリコン結晶、窒素点欠陥複合体、赤外吸収

窒素ドープFZシリコン結晶で電子線照射後および後熱処理後に見出した551、688cm-1吸収をas-grown結晶で調べた。551cm-1吸収は全てのCZ,FZ結晶でNN吸収の1/3の大きさで観測された。これは格子間窒素Ni起源である。689cm-1吸収がFZ結晶で688cm-1吸収(VVNN起源)の近傍に見出された。強度は551cm-1吸収の約1/5で、空孔-置換型窒素対VNs起源と同定した。