11:00 〜 11:15 [12a-N323-5] ミニマルシリコン CVD における三塩化ホウ素によるホウ素ドーピング 本宮 淳弘1、〇加持 裕生1、羽深 等1、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院理工、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)