11:15 〜 11:30 [12a-N304-9] ALD堆積法によるHfO2/PVD-WS2膜界面における化学組成変化 〇山崎 知夢1、小野 凌1、今井 慎也1、濱田 拓也1、濱田 昌也1、宗田 伊理也1、角嶋 邦之1、若林 整1 (1.東工大)