15:00 〜 15:15 △ [12p-N206-8] 室温でのパルスレーザー照射によるエピタキシャルβ-Ga2O3薄膜の作製とドーピングの影響 〇(M2)渡邉 一樹1、甲斐 稜也1、大賀 友瑛1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)