[10p-N302-1~15] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[10p-N302-3] 青色ダイレクトダイオードレーザを用いたスパッタ製膜a-Si膜の結晶化

〇岡田 竜弥¹、野口 隆¹、菱田 光起²、宮野 謙太郎²、小畑 直彦²、信岡 政樹² (1.琉大工、2.パナソニック)

キーワード：青色ダイレクトダイオードレーザ、青色半導体レーザアニール