[10p-N307-1~14] 7.1 X線技術

[10p-N307-7] EUV顕微鏡照明光学系の高照度化

〇(M2)脇 俊太郎¹、津久井 雄祐¹、陳 軍¹、豊田 光紀¹ (1.東京工芸大院工)

キーワード：EUV、EUV顕微鏡

我々は、波長13nm領域の極紫外(EUV)領域で回折限界分解能を実現する多層膜ミラーによる対物光学系を開発している。これまでに放射光施設にEUVリソマスク検査用の顕微鏡システムを開発[1]し、微細L/Sパターン(線幅30nm)の解像を世界に先駆け実証した。さらに、レーザープラズマ(LPP)光源と2段拡大対物系(倍率x750)による、ラボスケール透過型顕微鏡を開発している。本講演では、透過型EUV顕微鏡用の高照度照明光学系の光学設計について報告する。