13:15 〜 13:30
[10p-N321-2] MBE法によるストイキオメトリなSnTe(100)薄膜の作製
キーワード:半導体、SnTe、X線回折
SnTeはスピントロニクス分野への応用などで期待されている。我々は MBE法によりGaAs(100)基板上にSnTe薄膜を作製することを試みた。作製した試料の結晶性について、X線回折測定の結果を用いて説明する。
一般セッション(口頭講演)
15 結晶工学 » 15.2 II-VI族結晶および多元系結晶
2021年9月10日(金) 13:00 〜 13:45 N321 (口頭)
宇野 和行(和歌山大)
13:15 〜 13:30
キーワード:半導体、SnTe、X線回折