[11a-N205-1~11] CS.9 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

△ [11a-N205-4] 溶液プロセスによるCeOx/ Hf-Zr-O積層構造の形成と評価

〇(M2)齋藤 瑞¹、Mohit Mohit¹、徳光 永輔¹ (1.北陸先端大)

キーワード：強誘電体、薄膜