[11a-N205-1~11] CS.9 Code-sharing Session of 6.1 & 13.3 & 13.5

[11a-N205-5] Endurance Characteristics of Ferroelectric Hf_xZr_1-xO₂ Thin Film Treated by FLA

〇Kento Izumi¹, Yuto Ota¹, Hikaru Kawarazaki², Hideaki Tanimura², Shinichi Kato², Yasuo Nara¹ (1.Univ. of hyogo, 2.SCREEN semicon.)

Keywords:HfxZr1-xO2, ferroelectric thin film, FLA

FLA処理を行った強誘電性Hf_xZr_1-xO₂薄膜についてのEndurance特性について調査した結果を報告する。