[11a-N205-1~11] CS.9 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

[11a-N205-5] FLA処理を行った強誘電性Hf_xZr_1-xO₂薄膜のEndurance特性の評価

〇和泉 賢人¹、太田 裕登¹、河原崎 光²、谷村 英昭²、加藤 慎一²、奈良 安雄¹ (1.兵県大工、2.SCREENセミコン)

キーワード：HfxZr1-xO2、強誘電体薄膜、FLA

FLA処理を行った強誘電性Hf_xZr_1-xO₂薄膜についてのEndurance特性について調査した結果を報告する。