2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

[11p-S301-1~7] 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

2021年9月11日(土) 13:30 〜 16:55 S301 (口頭)

関根 誠(名大)、金 載浩(産総研)

13:30 〜 14:00

[11p-S301-1] 励起原子、配向酸素分子が誘起する表面反応素過程の分析

倉橋 光紀1 (1.物材機構)

キーワード:表面反応、励起原子

表面での酸化過程は、触媒反応や腐食等の理解を目的として研究されてきたが、近年、強磁性金属(Ni、Co等)のエッチングの素過程としても重要になりつつある。一方、原子層プロセスで求められている低損傷スパッタへの低速準安定原子の利用可能性にも興味が持たれている。本講演では、Ni,Co単結晶薄膜表面への分子配向制御したO2吸着実験と、低速準安定原子が表面で誘起する過程について紹介する。