2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

[11p-S301-1~7] 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

2021年9月11日(土) 13:30 〜 16:55 S301 (口頭)

関根 誠(名大)、金 載浩(産総研)

14:00 〜 14:30

[11p-S301-2] 原子層材料の構造制御合成と機械学習活用

加藤 俊顕1、金子 俊郎1 (1.東北大院工)

キーワード:原子層材料、構造制御合成、機械学習

本講演ではカーボンナノチューブ、グラフェンナノリボン、及び遷移金属ダイカルコゲナイドといった原子層材料の高精度構造制御合成に関する我々の最新の研究成果を紹介する。また、近年取り組んでいる機械学習を取り入れた新たな原子層材料合成のアプローチに関しても報告する。