2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[12a-N104-1~10] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:45 N104 (口頭)

吉田 憲充(岐阜大)、中岡 俊裕(上智大)

09:15 〜 09:30

[12a-N104-2] Mechanism of Crystallization of Cat-CVD Hydrogenated n-a-Si Films on Textured Glass Substrates by FLA

Zheng WANG1、Huynh Thi Cam Tu1、Keisuke Ohdaira1 (1.JAIST)

キーワード:Thin film silicon