[12p-N102-1~15] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

△ [12p-N102-8] Structural Design of Boron Nitride Films Using Ion-Flux Controlling Reactive Plasma-Assisted Coating (RePAC) Technique

〇(D)Takayuki Matsuda¹, Takashi Hamano¹, Yuya Asamoto¹, Masao Noma², Michiru Yamashita³, Shigehiko Hasegawa⁴, Keiichiro Urabe¹, Koji Eriguchi¹ (1.Kyoto Univ., 2.SHINKO SEIKI. Co., LTD., 3.Hyogo Prefectural Inst., of Technol., 4.Osaka Univ.)

Keywords:deposition, thin films, plasma

窒化ホウ素（BN）は様々な構造・形態（立方晶，六方晶，アモルファス）をとりうる物理化学的に安定な材料である．立方晶のc-BNは超高硬度，六方晶のh-BNは高絶縁性を有し，ハードコーティング，2D電子デバイス，極限環境材料として注目されている．今回我々は，磁場印加型アーク放電をベースとするReactive Plasma-Assisted Coating（RePAC）プロセスを構築し，基板への入射イオンフラックス（Γ_ion）を制御することで，様々な構造・形態を有するBN膜形成を実現した．