2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[12p-N323-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2021年9月12日(日) 13:00 〜 16:15 N323 (口頭)

羽深 等(横国大)、後藤 哲也(東北大)

16:00 〜 16:15

[12p-N323-11] 局所クリーン化洗浄装置における微粒子を減らすための密閉空間での洗浄

根本 一正1、谷島 孝1、三浦 典子2、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ)

キーワード:ミニマルファブ、洗浄プロセス

ミニマルファブでは、局所クリーン化技術を導入することでクリーンルームが不要ある。これまで、ミニマルファブの洗浄装置では、最適な技術を開発できていなかった。そのため、洗浄後にウェハ上に微粒子が残存するという課題を抱えていた。解決策として液体吐出ヘッドとウェハとの距離を任意に制御することにより、ウェハの微粒子を減らすことが出来ることが分かった。