The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[12p-N323-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Sun. Sep 12, 2021 1:00 PM - 4:15 PM N323 (Oral)

Hitoshi Habuka(Yokohama Natl. Univ.), Tetsuya Goto(Tohoku Univ.)

2:15 PM - 2:30 PM

[12p-N323-5] Fabrication and evaluation of diamond SBD using Minimal fab (IV)

Hideyuki Watanabe1, Kazumasa Nemoto1, Fumito Imura1, Noriko Miura2, Takashi Yajima1, Shuichi Noda1, Hitoshi Umezawa1, Sommawan Khumpuang1,2, Shiro Hara1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:diamond, Schottky barrier diode, Minimal fab

現在使用しているミニマルファブ規格のダイヤモンドウエハは、複数枚の板状の単結晶ダイヤモンドが横方向に接合されたモザイク状結晶からなる。接合部では転位や歪などの格子欠陥が高密度に集中しており、転位や歪などの格子欠陥の影響がミリ単位で広く影響を及ぼす物かどうかについては検討する価値がある。今回我々はウエハ内に存在するダイヤモンド単結晶接合部が電気的特性へ与える影響をSBDにより実際に評価したので報告する。