2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマナノテクノロジー

[13a-N323-1~10] 8.3 プラズマナノテクノロジー

2021年9月13日(月) 09:00 〜 12:00 N323 (口頭)

小川 大輔(中部大)、内田 儀一郎(名城大)

09:00 〜 09:15

[13a-N323-1] Ar+CH4平行平板型プラズマCVDで作製したカーボンナノ粒子サイズに対するガス圧力の効果

古閑 一憲1,2、黄 成和1、小野 晋次郎1、奥村 賢直1、鎌滝 晋礼1、板垣 奈穂1、鷹林 将3、呉 準席4、中谷 達行5、白谷 正治1 (1.九大シス情、2.自然科学研究機構、3.有明高専、4.大阪市立大、5.岡山理科大)

キーワード:プラズマCVD、カーボンナノ粒子

筆者らは、現在までにマルチホロー放電プラズマCVD法を用いてサイズ制御したCNPの連続作製に成功し、ナノ粒子のサイズ制御機構についてナノ粒子のプラズマ中滞在時間が重要であることを明らかにした。本発表では、マルチホロー放電プラズマCVD法で得られた知見の産業応用を見据え、平行平板型プラズマCVD法に適用した結果について報告する。