[13p-N203-1~10] 6.4 Thin films and New materials

△ [13p-N203-2] PLD synthesis and characterization of aliovalent-doped layered La-Ni-O system epitaxial films

〇(M2)Shohei Hisatomi¹, Yuki Goto¹, Tomoaki Oga¹, Satoru Kaneko^2,1, Mamoru Yoshimoto¹, Akifumi Matsuda¹ (1.Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:epitaxial films, lanthanum nickelates, Ruddlesden-Popper

層状ニッケル酸ランタンLa_n+1Ni_nO_3n+1(n=1,2,3,…,∞)は混合イオン電子伝導性特性により、固体酸化物燃料電池など様々な応用が期待されている。そのなかでも多層型結晶(n≧3)においてはエピタキシャル薄膜やドーピングに関する報告例は少なく、薄膜合成や導電特性に関する知見が求められている。本研究では、異原子価ドープされた層状ニッケル酸ランタンのエピタキシャル薄膜合成と、4価イオンによるLa³⁺置換、およびNi価数制御が薄膜の構造および導電性におよぼす影響について検討した。