[13p-S301-1~15] 6.2 Carbon-based thin films

[13p-S301-3] Effects of Hydrogen and Argon Dilution on the Properties of Silicon and Nitrogen Doped Diamond-Like Carbon Films by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

〇Yuya Sasaki¹, Hiroya Osanai¹, Yusuke Ohtani¹, Yuta Murono¹, Masayoshi Sato¹, Yasuyuki Kobayashi¹, Yoshiharu Enta¹, Yushi Suzuki¹, Hideki Nakazawa¹ (1.Hirosaki Univ.)

Keywords:diamond-like carbon, plasma-enhanced chemical vapor deposition

希釈ガスとしてH₂とArを用いたプラズマCVD法によりSiおよびN添加DLC(Si-N-DLC)膜を作製し、水素流量比[H₂/(H₂+Ar)]がSi-N-DLC膜特性に与える影響を調べた。Si-N-DLC膜の密着性は水素流量比の増加に伴い改善された。一方、水素流量比の増加に伴い光学バンドギャップは増加し、摩擦係数と比摩耗量は減少した。また、水素流量比が高いときのSi-N-DLCは疎水性を示した。