09:30 〜 09:45 △ [19a-Z29-3] 3次元積層型CIS向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの特性(Ⅲ)-シリコン系分子イオン注入のゲッタリング特性- 〇廣瀬 諒1、門野 武1、柾田 亜由美1、奥山 亮輔1、小林 弘治1、鈴木 陽洋1、古賀 祥泰1、栗田 一成1 (1.SUMCO)