09:00 〜 09:15 [19a-Z29-1] 3次元積層型CIS向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの特性(I)-炭化水素分子イオン注入ウェーハによるSiO2/Si界面準位欠陥の低減- 〇奥山 亮輔1、門野 武1、柾田 亜由美1、鈴木 陽洋1、小林 弘治1、重松 理史1、廣瀬 諒1、古賀 祥泰1、栗田 一成1 (1.SUMCO)