一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:30 〜 09:45
〇前田 拓也1、成田 哲生2、山田 真嗣3,4、加地 徹3、木本 恒暢1、堀田 昌宏1,3,5、須田 淳1,3,5 (1.京大院工、2.豊田中研、3.名大未来材料・システム研究所、4.アルバック先進研、5.名大院工)
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09:45 〜 10:00
〇前田 拓也1、Casamento Joseph1、野本 一貴1、Xing Huili Grace1、Jena Debdeep1 (1.Cornell大学)
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10:00 〜 10:15
〇田中 大貴1、分島 彰男3、安藤 裕二1、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.名工大)
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10:15 〜 10:30
〇塩見 春奈1、嶋田 章宏1、藤平 哲也1、林 侑介1、金木 奨太2、橋詰 保2、今井 康彦3、隅谷 和嗣3、木村 滋3、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工、2.北大量エレ研、3.JASRI)
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10:45 〜 11:00
〇太田 博1、浅井 直美1、望月 和浩1、吉田 丈洋2、堀切 文正2、成田 好伸2、三島 友義1 (1.法政大学、2.サイオクス)
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11:00 〜 11:15
〇川崎 晟也1、安藤 悠人1、出来 真斗1,2、渡邉 浩崇3、田中 敦之3,4、新田 州吾3、本田 善央3、新井 学3、天野 浩2,3,4,5 (1.名大院工、2.名大VBL、3.名大未来研、4.物材機構、5.赤﨑記念研究センター)
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11:15 〜 11:30
〇和田 竜垂1、白石 舞翔1、宮崎 泰成1、大森 雅登1 (1.大分大)
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11:30 〜 11:45
〇高橋 英匡1、安藤 裕二1、生島 百恵3、分島 彰男3、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.名工大)
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