09:00 〜 09:15
〇(M1)Ke Wang1、Hao Jiang1、Chen Gong1、Hironaru Murakami1、Masayoshi Tonouchi1 (1.Osaka Univ.)
一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2021年3月19日(金) 09:00 〜 12:15 Z33 (Z33)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(M1)Ke Wang1、Hao Jiang1、Chen Gong1、Hironaru Murakami1、Masayoshi Tonouchi1 (1.Osaka Univ.)
09:15 〜 09:30
〇中野 由崇1、豊留 彬1、鈴木 陸1、安田 優綺1 (1.中部大工)
09:30 〜 09:45
〇守屋 亮1、城川 潤二郎1、高橋 勲2、四戸 孝2、肖 世玉3、三宅 秀人3、荒木 努1 (1.立命館大、2.FLOSFIA、3.三重大)
09:45 〜 10:00
〇(M1)中西 雅彦1、飯塚 万友1、庄司 昂平1、桝谷 聡士2、嘉数 誠3、山口 智広1、本田 徹1、佐々木 公平2、倉又 朗人2、尾沼 猛儀1 (1.工学院大、2.ノベルクリスタルテクノロジー、3.佐賀大)
10:00 〜 10:15
〇山口 博隆1、渡辺 信也2、山岡 優2、輿 公祥2、倉又 朗人2 (1.産総研、2.ノベルクリスタル)
10:15 〜 10:30
〇平岩 篤1,4、堀川 清貴2、川原田 洋1,2,3、加渡 幹尚5、旦野 克典5 (1.早大ナノ・ライフ、2.早大理工、3.早大材研、4.名大未来研、5.トヨタ自動車)
10:45 〜 11:00
〇(D)Sayleap Sdoeung1、Kohei Sasaki2、Katsumi Kawasaki3、Jun Hirabayashi3、Akito Kuramata2、Makoto Kasu1 (1.Saga Univ.、2.Novel Crystal Technology、3.TDK)
11:00 〜 11:15
〇嘉数 誠1、スダーン セイリープ1、佐々木 公平2、桝谷 聡士2、川崎 克己3、平林 潤3、倉又 朗人2 (1.佐賀大院工、2.ノベルクリスタルテクノロジー、3.TDK(株))
11:15 〜 11:30
〇森 あかね1、税本 雄也1、後藤 健1、熊谷 義直1 (1.東京農工大工)
11:30 〜 11:45
〇斉藤 拓海1、井原 佑太1、相馬 拓人1、加渡 幹尚2、大友 明1,3 (1.東工大物質理工学院、2.トヨタ自動車、3.元素戦略)
11:45 〜 12:00
〇(M1)高根 倫史1、金子 健太郎1、太田 優一2、藤田 静雄1 (1.京大院工、2.都産技研)
12:00 〜 12:15
〇Nan Zhang1、Takumi Saito1、Kaisei Kamei1、Takuto Soma1、Akira Ohtomo1,2 (1.Tokyo Tech.、2.MCES)
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