2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術

[16a-Z26-1~11] 13.5 デバイス/配線/集積化技術

2021年3月16日(火) 09:00 〜 12:00 Z26 (Z26)

猪川 洋(静大)、森 貴洋(産総研)

09:30 〜 09:45

[16a-Z26-3] トンネル FET の出力特性改善に関する検討

〇(B)藤井 陸功1、三田 梓郎1 (1.日大理工)

キーワード:トンネルFET

近年普及が進んでいるIoTデバイスでは,設置性を高める等の理由等から,環境発電による微弱電力での動作が求められている.低消費電力化のために,急峻なサブスレッショルド特性を有するSteep-slope transistorが求められている.中でも我々は,作製工程がMOSFETと類似したトンネルFET (TFET)について注目し,駆動電流向上について研究を行ってきた.しかし,TFETにおけるID-VD特性の立ち上がりは,従来のMOSFETに比べ緩やかであり,CMOS回路に適用した際のスイッチング時間が長くなる.そこで今回,Id-Vd特性の立ち上がり特性改善を目的に,TFETへのDouble gate構造の適用に関してデバイスシミュレーションを用いて検討を行った.