[18a-Z14-1~11] 7.1 X-ray technologies

△ [18a-Z14-1] Surface deterioration control in protective film of collector mirror for EUV light source

〇Yoshiyuki Honda¹, Shinji Nagai¹, Masayuki Morita¹, Masahiko Andou¹, Akifumi Matsuda², Mamoru Yoshimoto² (1.Gigaphoton Inc., 2.Tokyo Tech.)

Keywords:EUV light source

EUV光源における長寿命化の課題として、Mo/Si多層膜反射集光鏡の保護膜劣化によるEUV反射率の低下がある。本研究では、Mo/Si多層膜反射集光鏡における、非晶質TiO₂保護膜の結晶化による劣化機構の解明と劣化抑制手法を検討した。保護膜とMo/Si多層膜の間にSiO₂層の挿入を試みたところ、TiO₂保護膜界面に生成された結晶核の成長を妨げると考えられる、明確な結晶化抑制効果を見出した。