[18a-Z14-1~11] 7.1 X-ray technologies

[18a-Z14-5] The origin of the EUV spectrum of Sn and heavier and elements, which is applicable to the lithographic sources

〇Akira Sasaki¹ (1.KPSI, QST)

Keywords:EUV source, plasma spectroscopy, Highly charged ions

波長13.5nmのスズのレーザープラズマからのEUV発光は、半導体リソグラフィ光源として実用化され、さらなる露光パターンの微細化のため、光源の短波長化、高効率化の研究が進められている。本発表では、数値計算によって求めた原子エネルギー準位や発光線の遷移確率のデータと、さまざまな条件で得られた実験データの詳しい解析もとに、発光スペクトルのモデルを構築した結果と、今後の課題について述べる。