The 68th JSAP Spring Meeting 2021

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[18a-Z17-1~11] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Thu. Mar 18, 2021 9:00 AM - 12:00 PM Z17 (Z17)

Kosuke Takenaka(Osaka Univ.), Keigo Takeda(Meijo Univ.)

11:00 AM - 11:15 AM

[18a-Z17-8] Creation of nanoporous silver surface by moderate-pressure hydrogen plasma

〇(M1)Takuro Sekido1, Takuhiro Ando1, Hiroaki Kakiuchi1, Kiyoshi Yasutake1, Hiromasa Ohmi1 (1.Osaka Univ.)

Keywords:Hydrogen plasma, nanoporous, silver

ナノポーラス化された金属表面は、触媒、センサーなど種々の応用が期待される機能化表面である。従来の作製法は、高温環境や有毒・高価な薬品が必要なため種々の問題がある。本研究では、無毒・廉価な水素ガスによる局在プラズマを用い、微量化学物質検出のためのナノポーラス化銀表面の創成を試みている。今回は、高密度水素プラズマに曝露した際の、ナノポーラス銀の形成特性を調査し、形成メカニズムを考察した結果を報告する。