[18p-Z03-1~10] EUV・軟X線イメージングの描く未来

[18p-Z03-7] レンズレス顕微鏡によるEUV マスク観察

〇原田 哲男¹、渡邊 健夫¹ (1.兵県大)

キーワード：EUVリソグラフィー、軟Ｘ線、レンズレス顕微鏡

EUVリソグラフィーは半導体製造技術として2019年から量産に適用され、現在は多くの最先端半導体デバイスの製造に使われている。EUVマスクではパタン位相制御が重要となり、EUV位相の観察技術が求められている。我々はコヒーレント回折イメージングを利用したレンズレスの回折顕微鏡（CSM: Coherent EUV scatterometry microscope）を開発してきた。吸収体の強度像だけでなく、EUV位相像を観察できることが大きな特徴である。