[18p-Z17-1~20] 8.1 プラズマ生成・診断

[18p-Z17-14] リフレクトロン型飛行時間質量分析計を用いた Deep Oscillation Magnetron Sputtering(DOMS)のイオン組成分析

〇中込 雄基¹、西田 寛¹、西宮 信夫¹、實方 真臣¹、山本 宏晃²、平田 直之²、戸名 正英²、塚本 恵三²、冨宅 喜代一³、大下 慶次郎⁴、美齊津 文典⁴ (1.東京工芸大工、2.（株）アヤボ、3.豊田理研、4.東北大院理)

キーワード：スパッタリング、マグネトロンスパッタリング、飛行時間質量分析法

櫛型の放電波形を用いたDeep Oscillation Magnetron Sputtering（DOMS）は、大電力かつアーキングを回避するロングパルススパッタリング法として、DLC成膜を中心に注目されている。現在、DOMSに関する研究は成膜特性に集中しており、スパッタリングの素過程に関する検討はこれからの段階にある。本研究では櫛型放電波形の成形により生成するDOMSプラズマについて、飛行時間型質量分析法（TOFMS）を用いたイオン組成分析を行い、DOMSのスパッタリング過程について検討を行う。