The 68th JSAP Spring Meeting 2021

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[18p-Z24-1~14] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Thu. Mar 18, 2021 1:30 PM - 5:15 PM Z24 (Z24)

Seiichiro Higashi(Hiroshima Univ.), Tatsuya Okada(Univ. of the Ryukyus)

3:45 PM - 4:00 PM

[18p-Z24-9] MEMS vapor cells with monolithically integrated alkali metal dispensing component

〇(M2)Shun Kiyose1, Yoshikazu Hirai1, Osamu Tabata2, Toshiyuki Tsuchiya1 (1.Kyoto Univ., 2.Kyoto Univ. of Adv. Sci.)

Keywords:Quantum sensor, Wafer fabrication, Reactive ion etching

アルカリ金属と不活性ガスをシリコンとガラスの容器に封入した小型ガスセルは,量子センサの重要な構成要素である.本発表は,ウェハレベルで小型かつ高性能なガスセル作製を目的に,CsN3の加熱分解を使ったCs生成をシリコンの三次元微細構造で高効率に達成する新しいガスセル構造を報告する.ウェハレベルで一括作製したガスセルを330℃で約10分加熱すると,従来よりも低温・短時間で必要量のCs生成が確認できた.