[19a-Z24-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19a-Z24-3] ミニマルRFマグネトロンスパッタリング装置によるAlN薄膜の形成(2)

〇堀田 将也¹、西里 洋¹、遠江 栄希²、柴 育成²、前田 拓哉³、小渡 祐樹³、藤井 知³ (1.堀場エステック、2.横河ソリューションサービス、3.沖縄高専)

キーワード：ミニマルファブ、スパッタリング、窒化アルミニウム