[19a-Z24-1~10] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[19a-Z24-6] Study of Coating Process for Various Photo-resists using Minimal Fab Coater

〇Shuhei Nakamichi¹, Hiroyuki Tanaka², Fumito Imura², Shuichi Noda², Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST)

Keywords:Minimal Fab, Photoresist, Spin-coater

ミニマルファブが使用しているハーフインチウェハは、そのサイズの小ささからスピンコート時に十分な遠心力を得ることが難しい。また同様に寸法的な問題からエッジ部のリンス処理が難しいなどの制約があり、それらのレジストを使って如何に均一にコーティングするが大きな課題となっている。今回、我々は厚膜レジストや高解像度レジストの膜厚均一性向上の実験を行い、実際に均一性の良い特性が得られたのでその結果について報告する。