The 68th JSAP Spring Meeting 2021

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[19p-Z24-1~10] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Fri. Mar 19, 2021 1:30 PM - 4:15 PM Z24 (Z24)

Kuniyuki Kakushima(Tokyo Tech), Masato Sone(Tokyo Tech)

3:30 PM - 3:45 PM

[19p-Z24-8] Characterization of SN ratio and other performances in MINIMAL FAB TXRF Tool (TXRF Tester)

Shuichi Noda1, Hiroshige Kogayu2, Wataru Sakai3, Jun Hirose3, Tatsuya Hayashi3, Kana Onishi3, Hiroshi Nishizato3, Sommawan Khumpuang1,2, Shiro Hara1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL, 3.HORIBA STEC)

Keywords:TXRF, metal film thickness tester, microanalysis

非単色の小型自然空冷型X線管を用いた高感度ハンディー型全反射蛍光X線(TXRF)分析装置を真空チャンバーに組み込んだ「ミニマルTXRFテスター」を開発した。本装置はTiNメタルゲート電極等の金属薄膜の膜厚計として最適化してあるが、超小型ながら検出感度が高く、汚染物質の微量分析にも適用が期待される。これを念頭にTXRF分析装置としての基本特性を評価した結果を示す。