15:00 〜 15:15 [20p-A406-8] トリシランを用いたミニマルファブ向けポリシリコンゲート電極のCVD成膜に関する検討 〇後藤 哲也1、小林 誠二2、クオン タイクオック2、薮田 勇気3、須川 成利1、原 史朗4,5 (1.東北大未来研、2.コーテック、3.誠南工業、4.産総研、5.ミニマル)