鷲田将吾

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発表者・著者、共著者

2022年9月21日(水) 09:00 〜 12:00 C200 (C200)

一般セッション(口頭講演)
| 15 結晶工学
| 15.4 III-V族窒化物結晶

[21a-C200-1~11] 15.4 III-V族窒化物結晶

10:45 〜 11:00

△ [21a-C200-7] Naフラックス法における基板表面分解を起因としたファセット成長による転位減少効果

〇鷲田将吾¹、Ricksen Tandryo¹、濱田和真¹、中島達彦¹、村上航介¹、今西正幸¹、宇佐美茂佳¹、丸山美帆子¹、吉村政志²、森勇介¹ (1.阪大院工、2.阪大レーザー研)