一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.1 光学基礎・光学新領域（旧3.2「材料・機器光学」と統合）
09:00 〜 09:15
〇岸 哲生1、唐 恒傑1、鍾 逸夫1、周 咸亨1、矢野 哲司1 (1.東京工業大学)
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09:15 〜 09:30
〇(M2)平島 駿一1、新保 一成1、岡 寿樹2、大平 泰生1 (1.新潟大学、2.北里大学)
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09:30 〜 09:45
〇覚野 貴之1、四竈 泰一1、蓮尾 昌裕1 (1.京大院工)
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09:45 〜 10:00
〇吉田 浩之1、阿部 祐大1、中谷 誠和1、井桁 幸一2、樋口 絢香2、金城 拓海2、小橋 淳二2、冨岡 安2、岡 真一郎2 (1.阪大院工、2.（株）ジャパンディスプレイ)
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10:00 〜 10:15
〇(DC)中山 牧水1、高橋 廣守1、長瀬 輝1、齊藤 雄太2、畑山 祥吾2、山本 詠士1、斎木 敏治1 (1.慶大理工、2.産総研)
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10:15 〜 10:30
〇坂本 盛嗣1,3、百﨑 龍成1、野田 浩平1,3、佐々木 友之1,3、川月 喜弘2,3、小野 浩司1,3 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.CREST, JST)
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10:30 〜 10:45
〇松井 龍之介1、藤原 大悟1 (1.三重大院工)
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10:45 〜 11:00
〇Pin Christophe1、Ryo Kakuta1、Hideki Fujiwara2、Keiji Sasaki1 (1.RIES, Hokkaido Univ.、2.Hokkai-gakuen Univ.)
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11:00 〜 11:15
〇納谷 昌之1,2、山戸 千鶴1、佐藤 守1、斎木 敏治1 (1.慶應理工、2.納谷ラボ)
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