シンポジウム(口頭講演)
シンポジウム » ワイドバンドギャップ半導体MOS界面科学の最前線
2022年9月21日(水) 13:30 〜 17:35 M206 (マルチメディアホール)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:50
〇大森 達夫1 (1.三菱電機 開発本部)
スケジュール
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13:50 〜 14:20
〇木本 恒暢1、立木 馨大1、伊藤 滉二1、三上 杏太1、金子 光顕1 (1.京大工)
スケジュール
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14:20 〜 14:35
〇畠山 哲夫1、平井 悠久2、染谷 満2、岡本 大1、岡本 光央2、原田 信介2 (1.富山県立大工、2.産総研)
スケジュール
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14:35 〜 15:05
〇橋詰 保1、赤澤 正道1 (1.北大量エレ研)
スケジュール
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15:05 〜 15:35
〇宮崎 誠一1、大田 晁生1 (1.名大院工)
スケジュール
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15:50 〜 16:20
〇白石 賢二1、押山 淳1 (1.名大未来研)
スケジュール
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16:20 〜 16:50
〇喜多 浩之1 (1.東大新領域)
スケジュール
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16:50 〜 17:05
〇宮本 広信1、小石川 結樹1、脇本 大樹1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー)
スケジュール
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17:05 〜 17:35
〇徳田 規夫1 (1.金沢大)
スケジュール
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