09:30 〜 11:30 [23a-P04-1] Si3N4膜とSiO2膜中のハロゲンイオンの安定位置での生成エネルギー 〇奥 友希1、戸塚 正裕1、佐々木 肇1 (1.三菱電機) PDF ダウンロード スケジュール いいね! コメント ( )
09:30 〜 11:30 [23a-P04-2] FT-IR微分スペクトルによる低温酸化Si膜中の残留OH基量の評価 〇普 迪1、堀田 將1 (1.北陸先端大) PDF ダウンロード スケジュール いいね! コメント ( )