2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20a-B203-1~10] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2022年9月20日(火) 09:00 〜 11:45 B203 (B203)

相馬 拓人(東工大)

09:30 〜 09:45

[20a-B203-3] 水を溶媒とするミストCVD法によるアナターゼ型TiO2薄膜の作製

簾 智仁1、Xu Han1、三浦 弓恵1、中山 亮1、清水 亮太1、山田 直臣2、金子 健太郎3、一杉 太郎1,4 (1.東工大物質理工、2.中部大、3.京大院工、4.東大院理化)

キーワード:ミストCVD、酸化チタン