[20a-C101-1~13] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[20a-C101-1] Selected Area Crystallization in Amorphous Film by Electron Beam Irradiation

〇(M2)Shunsuke Tanahashi¹, Tomoharu Tokunaga¹, Takahisa Yamamoto¹ (1.Nagoya Univ.)

Keywords:Atomic Layer Deposition, electron beam, crystallization

様々なアモルファス材料において電子線照射による結晶化が報告されている。この手法は、被照射体の微小領域を選択的に結晶化させることができ、新たなファブリケーションへの応用も期待されている。一方で、電子線がどのように作用して結晶化されるのか、未だ明らかにされていない。そこで、成膜したAlO_x薄膜表面に走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて電子線を照射し、透過型電子顕微鏡(TEM)により照射領域の構造を解析することで、結晶化機構の解明を試みた。