The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[20p-A105-1~11] 8.1 Plasma production and diagnostics

Tue. Sep 20, 2022 2:00 PM - 5:00 PM A105 (A105)

Daisuke Ogawa(Chubu Univ.), Kentaro Tomita(Hokkaido Univ.)

2:45 PM - 3:00 PM

[20p-A105-4] Monitoring of Material Surface Modification in Plasmas Using a Floating Harmonic Probe Method

Junki Morozumi1, Koji Eriguchi1, Keiichiro Urabe1 (1.Kyoto Univ.)

Keywords:Plasma and material surface, Probe measurement, Impedance spectroscopy

プローブ法は低温プラズマ中の電子プラズマパラメータ(ne, Te)の計測に広く使われてきた.しかし,反応性プラズマの計測においてはプローブ表面に抵抗体や絶縁体が形成され,電流電圧特性がその表面状態に大きく影響される.正確なプローブ計測のためには反応性プラズマ中のプローブ表面状態を知る必要がある.本研究は高調波プローブ(FHP)法を応用し,反応性プラズマ中で経時的に変化するプローブ表面状態を捉えた.