The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

Presentation information

Print

Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[20p-A406-1~13] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Tue. Sep 20, 2022 1:00 PM - 4:30 PM A406 (A406)

Tatsuya Okada(Univ. of the Ryukyus), Reo Kometani(Univ. of Tokyo)

1:30 PM - 1:45 PM

[20p-A406-3] Monitoring CV characteristics in Minimal Fab for manufacturing process control

〇kazushige sato1, Sommawan Khumpuang1,2, Shiro Hara1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST)

Keywords:Minimal Fab

2017年よりCV特性に見られるようになった異常(ミニマルファブでの汚染の発生)について、その原因分析、そしてその原因の壊滅に至る諸方策について報告する。