[20p-A406-1~13] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[20p-A406-7] Evaluation II of Variation in Sheet Resistance of nMOSFET using Minimal-Fab Spin-on Dopant Process

〇Shuhei Nakamichi¹, Hiroyuki Tanaka², Fumito Imura², Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.MinimalFab, 2.AIST)

Keywords:minimalFab, SOD Coat, Spin-coater

SODプロセスを集積回路などの実用用途に用いる場合、SOD材料では溶媒中で溶質を均一にウェハコーティングするために、発生する課題を克服する塗布プロセスを開発したことを前回報告した。今回は、この塗布の不均一性改善が実際に、ドーピングの不均一性とどのような関係にあるのかについて報告する。